10 maja 2026 (niedziela)
Miejsce: Wrocław
Czas trwania: 16 h
Cena: 3 000,00 PLN brutto
Termin: 10.05.2026 do 11.05.2026
Organizator:
Niepubliczna Placówka Kształcenia Ustawicznego Barber Academy Ewa Wolaniuk-Kloc
ul. Strzegomska 282
54-432 Wrocław
tel. 500 190 484
https://szkolenia-barberskie.pl/
biuro@szkolenia-barberskie.pl
8 czerwca 2026 (poniedziałek)
Miejsce: Wrocław
Czas trwania: 24 h
Cena: 4 500,00 PLN brutto
Termin: 08.06.2026 do 10.06.2026
Organizator:
Niepubliczna Placówka Kształcenia Ustawicznego Barber Academy Ewa Wolaniuk-Kloc
ul. Strzegomska 282
54-432 Wrocław
tel. 500 190 484
https://szkolenia-barberskie.pl/
biuro@szkolenia-barberskie.pl
20 czerwca 2026 (sobota)
Miejsce: Wrocław
Czas trwania: 16 h
Cena: 2 720,00 PLN brutto
Termin: 20.06.2026 do 21.06.2026
Organizator:
Niepubliczna Placówka Kształcenia Ustawicznego Barber Academy Ewa Wolaniuk-Kloc
ul. Strzegomska 282
54-432 Wrocław
tel. 500 190 484
https://szkolenia-barberskie.pl/
biuro@szkolenia-barberskie.pl
24 sierpnia 2026 (poniedziałek)
Miejsce: Wrocław
Czas trwania: 40 h
Cena: 6 800,00 PLN brutto
Termin: 24.08.2026 do 28.08.2026
Organizator:
Niepubliczna Placówka Kształcenia Ustawicznego Barber Academy Ewa Wolaniuk-Kloc
ul. Strzegomska 282
54-432 Wrocław
tel. 500 190 484
https://szkolenia-barberskie.pl/
biuro@szkolenia-barberskie.pl
12 września 2026 (sobota)
Miejsce: Wrocław
Czas trwania: 16 h
Cena: 3 000,00 PLN brutto
Termin: 12.09.2026 do 13.09.2026
Organizator:
Niepubliczna Placówka Kształcenia Ustawicznego Barber Academy Ewa Wolaniuk-Kloc
ul. Strzegomska 282
54-432 Wrocław
tel. 500 190 484
https://szkolenia-barberskie.pl/
biuro@szkolenia-barberskie.pl
26 września 2026 (sobota)
Miejsce: Wrocław
Czas trwania: 16 h
Cena: 3 000,00 PLN brutto
Termin: 26.09.2026 do 27.09.2026
Organizator:
Niepubliczna Placówka Kształcenia Ustawicznego Barber Academy Ewa Wolaniuk-Kloc
ul. Strzegomska 282
54-432 Wrocław
tel. 500 190 484
https://szkolenia-barberskie.pl/
biuro@szkolenia-barberskie.pl
źródło: Baza Usług Rozwojowych (BUR), Rejestr Instytucji Szkoleniowych (RIS) oraz własne